光谱型椭偏仪原理
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摘要: 光谱型椭偏仪原理
光谱型椭偏仪是一种用于探测波膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，使得椭偏仪成为一种极具吸引力的测量设备。　　椭偏仪可测的材料 ...
& & & &光谱型椭偏仪原理 & & & &光谱型椭偏仪是一种用于探测波膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于与样品非接触，对样品没有破坏且不需要真空，使得椭偏仪成为一种极具吸引力的测量设备。　　椭偏仪可测的材料包括：& & & &半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质…　　　　涉及领域有：&　　半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药…&　　发展历史　　早期的研究主要集中于偏振光及偏振光与材料相互作用的物理学研究以及仪器的光学研究。计算机的发展使椭偏仪在更多的领域得到应用。硬件的自动化和软件的成熟大大提高了运算的速度，成熟的软件提供了解决问题的新方法，因此，椭偏仪现在已被广泛应用于研究、开发和制造过程中。&　　光谱范围　　早些年，椭偏仪的工作波长为单波长或少数独立的波长，最典型的是采用激光或对电弧等强光谱光进行滤光产生的单色光源。现在大多数的椭偏仪在很宽的波长范围内以多波长工作（通常有几百个波长，接近连续）。和单波长的椭偏仪相比，多波长光谱椭偏仪有下面的优点：可以提升多层探测能力，可以测试物质对不同波长光波的折射率等。　　椭偏仪的光谱范围在深紫外的142nm到红外33um可选。光谱范围的选择取决于被测材料的属性、薄膜厚度及关心的光谱段等因素。例如，掺杂浓度对材料红外光学属性有很大的影响，因此需要能测量红外波段的椭偏仪；薄膜的厚度测量需要光能穿透这薄膜，到达基底，然后并被探测器检测到，因此需要选用该待测材料透明或部分透明的光谱段；对于厚的薄膜选取长波长更有利于测量。&　　椭偏仪如何工作？&　　下图给出了椭偏仪的基本光学物理结构。已知入射光的偏振态，偏振光在样品表面被反射，测量得到反射光偏振态（幅度和相位），计算或拟合出材料的属性。&　　入射光束（线偏振光）的电场可以在两个垂直平面上分解为矢量元。P平面包含入射光和出射光，s平面则是与这个平面垂直。类似的，反射光或透射光是典型的椭圆偏振光，因此仪器被称为椭偏仪。关于偏振光的详细描述可以参考其他文献。在物理学上，偏振态的变化可以用复数ρ来表示：&　　& & & &其中，ψ和?分别描述振幅和相位。P平面和s平面上的Fresnel反射系数分别用复函数rp和rs来表示。rp和rs的数学表达式可以用Maxwell方程在不同材料边界上的电磁辐射推到得到。&&　　其中?0是入射角，?1是折射角。入射角为入射光束和待研究表面法线的夹角。通常椭偏仪的入射角范围是45°到90°。这样在探测材料属性时可以提供最佳的灵敏度。每层介质的折射率可以用下面的复函数表示&　　通常n称为折射率，k称为消光系数。这两个系数用来描述入射光如何与材料相互作用。它们被称为光学常数。实际上，尽管这个值是随着波长、温度等参数变化而变化的。当代测样品周围介质是空气或真空的时候，N0的值通常取1.000。&　 & &通常椭偏仪测量作为波长和入射角函数的ρ的值（经常以ψ和?或相关的量表示）。一次测量完成以后，所得的数据用来分析得到光学常数，膜层厚度，以及其他感兴趣的参数值。如下图所示，分析的过程包含很多步骤。&　　可以用一个模型（model）来描述测量的样品，这个模型包含了每个材料的多个平面，包括基底。在测量的光谱范围内，用厚度和光学常数（n和k）来描述每一个层，对未知的参数先做一个初始假定。最简单的模型是一个均匀的大块固体，表面没有粗糙和氧化。这种情况下，折射率的复函数直接表示为：　　但实际应用中大多数材料都是粗糙或有氧化的表面，因此上述函数式常常不能应用。 &　　图中的下一步，利用模型来生成Gen.Data，由模型确定的参数生成Psi和Detla数据，并与测量得到的数据进行比较，不断修正模型中的参数使得生成的数据与测量得到的数据尽量一致。即使在一个大的基底上只有一层薄膜，理论上对这个模型的代数方程描述也是非常复杂的。因此通常不能对光学常数、厚度等给出类似上面方程一样的数学描述，这样的问题，通常被称作是反演问题。&　　最通常的解决椭偏仪反演问题的方法就是在衰减分析中，应用Levenberg-Marquardt算法。利用比较方程，将实验所得到的数据和模型生成的数据比较。通常，定义均方误差为：&　　在有些情况下，最小的MSE可能产生非物理或非唯一的结果。但是加入符合物理定律的限制或判断后，还是可以得到很好的结果。衰减分析已经在椭偏仪分析中收到成功的应用，结果是可信的、符合物理定律的、精确可靠。&　　仪器构造&　　在光谱椭偏仪的测量中使用不同的硬件配置，但每种配置都必须能产生已知偏振态的光束。测量由被测样品反射后光的偏振态。这要求仪器能够量化偏振态的变化量ρ。&&　　有些仪器测量ρ是通过旋转确定初始偏振光状态的偏振片（称为起偏器）。再利用第二个固定位置的偏振片（称为检偏器）来测得输出光束的偏振态。另外一些仪器是固定起偏器和检偏器，而在中间部分调制偏振光的状态，如利用声光晶体等，最终得到输出光束的偏振态。这些不同的配置的最终结果都是测量作为波长和入射角复函数ρ。&　　在选则合适的椭偏仪的时候，光谱范围和测量速度也是一个通常需要考虑的重要因素。可选的光谱范围从深紫外的142nm到红外的33um。光谱范围的选择通常由应用决定。不同的光谱范围能够提供关于材料的不同信息，合适的仪器必须和所要测量的光谱范围匹配。&　　测量速度通常由所选择的分光仪器（用来分开波长）来决定。单色仪用来选择单一的、窄带的波长，通过移动单色仪内的光学设备（一般由计算机控制），单色仪可以选择感兴趣的波长。这种方式波长比较准确，但速度比较慢，因为每次只能测试一个波长。如果单色仪放置在样品前，有一个优点是明显减少了到达样品的入射光的量（避免了感光材料的改变）。另外一种测量的方式是同时测量整个光谱范围，将复合光束的波长展开，利用探测器阵列来检测各个不同的波长信号。在需要快速测量的时候，通常是用这种方式。傅立叶变换分光计也能同时测量整个光谱，但通常只需一个探测器，而不用阵列，这种方法在红外光谱范围应用最为广泛。
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椭偏仪的原理和应用
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椭偏仪的原理和应用
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ESS03 波长扫描时式多入射角光谱椭偏仪
ESS03 波长扫描时式多入射角光谱椭偏仪
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　　ES0S3是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式高精度多入射角光谱椭偏仪，此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。
　　ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。
　　ESS03系列多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，膜层厚度、表面微粗糙度等）和光学参数（如，折射率n、消光系数k、复介电常数ε等），也可用于测量块状材料的光学参数。
　　ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
　　技术特点：
　　极宽的光谱范围
　　采用宽光谱光源、宽光谱扫描德系统光学设计，保证了仪器在极宽的光谱范围下都具有高准确度，非常适合于对光谱范围要求极其严格的场合。
　　灵活的测量设置
　　仪器的多个关键参数可根据要求而设定（包括：波长范围、扫描步距、入射角度等），极大地提高了测量的灵活性，可以胜任要求苛刻的样品。
　　原子层量级的检测灵敏度
　　国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级地纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm.
　　非常经济的技术方案
　　采用较经济的宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量，仪器整体成本得到有效降低。
　　应用领域：
　　ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
　　ESS03适合很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体地临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。
　　ESS03可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k.应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。
　　薄膜相关应用涉及物理、化学、信息、环保等，典型应用如：
　　半导体：如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）；
　　平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
　　功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
　　生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等。
　　节能环保领域：LOW-E玻璃等。
　　ESS03系列也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k.应用领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。典型应用包括：
　　玻璃新品研发和质量控制等。
　　技术指标：
　　项目技术指标
　　光谱范围　ESS03VI：370-1700nm
　　ESS03UI：245-1700nm
　　光谱分辨率（nm）可设置
　　入射角度　40°-90°手动调节，步距5，重复性0.02
　　准确度δ（Psi）：0.02°，δ（Delta）：0.04°
　　（透射模式测空气时）
　　膜厚测量重复性（1）0.05nm（对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层）
　　折射率n测量重复性（1）0.001（对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层）
　　单次测量时间典型0.6s/Wavelength/Point（取决于测量模式）
　　光学结构　PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）
　　可测量样品最大尺寸直径200　mm
　　样品方位调整高度调节范围：10mm
　　二维俯仰调节：±4°
　　样品对准光学自准直显微和望远对准系统
　　软件？多语言界面切换
　　？预设项目供快捷操作使用
　　？安全的权限管理模式（管理员、操作员）
　　？方便的材料数据库以及多种色散模型库
　　？丰富的模型数据库
　　选配件自动扫描样品台
　　聚焦透镜
　　注：（1）测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
　　可选配件：
　　NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
　　NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
　　VP01真空吸附泵
　　VP02真空吸附泵
　　样品池　
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椭偏仪应用
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椭偏仪的结构原理与发展
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【作者单位】：
【关键词】：
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概述椭圆偏振测量技术是研究两煤质间界面或薄膜中发生的现象及其特性的一种光学方法，基于利用偏振光束在界面和薄膜上反射或透射时出现的偏振态的变化。由于它的非扰动性和高灵敏度，因而在科学研究和工业生产的许多领域中获得广泛的应用。因为从一束反射偏振光中决定相对
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魏权;曹全喜;姜海青;李智敏;崔彬;;[J];稀有金属材料与工程;2007年S3期
曹春斌;孙兆奇;宋学萍;;[J];大学物理;2010年06期
肖清泉;谢泉;杨吟野;余志强;赵珂杰;;[J];湖南工程学院学报(自然科学版);2008年04期
周建华,游佰强,陈振兴,肖磊,王静;[J];光电子技术与信息;2005年05期
姜文海,侯小柯,崔占臣,张大明;[J];吉林大学学报(理学版);2005年02期
李素萍;王子华;张友俊;张胜;李铭祥;李英;;[J];上海大学学报(自然科学版);2010年04期
蒋甜甜;黄美东;杜姗;;[J];天津师范大学学报(自然科学版);2012年03期
程芳;黄美东;王丽格;杜姗;唐晓红;刘春伟;;[J];天津师范大学学报(自然科学版);2013年01期
谷锦华;朱志立;杨仕娥;郜小勇;陈永生;卢景霄;;[J];真空;2010年05期
郭扬铭,莫党,张曰理,唐振方;[J];中山大学学报(自然科学版);2005年01期
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刘毛;[D];中国科学院研究生院（合肥物质科学研究院）;2007年
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李云;[D];西北工业大学;2005年
张恒;[D];华南师范大学;2005年
张建彬;[D];华南师范大学;2005年
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郭冬勇,赵德国;[J];安徽教育学院学报;2002年06期
黄威;[J];鞍钢技术;1990年03期
苑进社,陈光德,张显斌;[J];半导体光电;2003年01期
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谭伟,辛荣生,孔小霞,贾晓林;[J];半导体技术;2000年06期
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姚红军,汪荣昌,戎瑞芬,徐飞,金海岩;[J];半导体技术;1997年01期
孔令英;[J];半导体技术;1997年05期
闫发旺,梁春广;[J];半导体情报;2001年06期
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宋晶晶;张津;杨栋华;;[A];2007高技术新材料产业发展研讨会暨《材料导报》编委会年会论文集[C];2007年
胡江川;王万录;马平;陈松林;万步勇;;[A];海峡两岸第二届工程材料研讨会论文集[C];2004年
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万步勇;崔玉亭;冯庆;;[J];大学物理实验;2011年06期
吴倩;陈松林;马平;王震;罗晋;潘峰;;[J];光学与光电技术;2010年02期
赵玉涛;刘晓燕;罗志华;;[J];硅酸盐学报;2008年02期
王辉;张峰;刘天际;王菲;孙小强;陈长鸣;张大明;;[J];光子学报;2011年09期
吴倩;陈松林;马平;;[J];红外与激光工程;2012年03期
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于书坤;范昭奇;夏道成;程传辉;白青龙;杜国同;;[J];吉林大学学报(理学版);2009年06期
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林远芳;黄强盛;茹启田;孙硕;郑晓东;;[J];浙江大学学报(工学版);2011年08期
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殷立峰,苗苞;[J];现代科学仪器;1995年02期
黄建敏，蒋夏萍;[J];华北水利水电学院学报;1994年03期
冯长川;[J];半导体技术;1987年06期
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王卉,莫党;[J];华南理工大学学报(自然科学版);1996年S1期
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黄平,张怀武,王豪才;[J];仪器仪表学报;2000年04期
王毕艺;袁晓东;蒋晓东;祖小涛;郭袁俊;郑万国;;[J];压电与声光;2008年06期
缪建伟，崔明启，唐鄂生，修立松;[J];光学精密工程;1994年01期
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洪冬梅;朱震;刘国喜;;[A];2004年光学仪器研讨会论文集[C];2004年
洪冬梅;陈生;曹海云;朱震;王春;;[A];2004年光学仪器研讨会论文集[C];2004年
姚兰芳;沈军;汪国庆;吴广明;吴兆丰;王珏;;[A];2004年光学仪器研讨会论文集[C];2004年
王济洲;熊玉卿;刘宏开;陈焘;;[A];真空技术与表面工程——第九届真空冶金与表面工程学术会议论文集[C];2009年
王济洲;熊玉卿;刘宏开;王多书;;[A];第九届真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集[C];2009年
闫宏;赵福庭;;[A];2004年光学仪器研讨会论文集[C];2004年
林炳;刘定权;张凤山;;[A];2004年光学仪器研讨会论文集[C];2004年
饶觉陶;梁瑾青;李科;;[A];现代光学制造技术论文集[C];2002年
张殷华;黄伟;张云洞;;[A];光电技术与系统文选——中国光学学会光电技术专业委员会成立二十周年暨第十一届全国光电技术与系统学术会议论文集[C];2005年
沈正祥;王占山;马彬;徐敬;陈玲燕;;[A];中国光学学会2006年学术大会论文摘要集[C];2006年
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万军;[N];中国企业报;2011年
常建龙　王婧
郝晓丽;[N];科技日报;2011年
马守贵;[N];中国化工报;2011年
赵芮　孙晓青
李湘虹;[N];人民日报海外版;2009年
证券时报记者
李小平;[N];证券时报;2011年
DisplayB[N];电子资讯时报;2007年
郭瑞坤　张小明;[N];上海证券报;2011年
余卫华;[N];电子资讯时报;2008年
荣超;[N];人民邮电;2010年
郑惠华;[N];河北经济日报;2011年
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李玉香;[D];山东大学;2007年
白胜元;[D];浙江大学;2001年
邓元龙;[D];天津大学;2007年
薛晖;[D];浙江大学;2009年
李再金;[D];中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）;2010年
韩军;[D];西安电子科技大学;2011年
沈伟东;[D];浙江大学;2006年
史金辉;[D];哈尔滨工程大学;2007年
王成;[D];中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）;2005年
陈海星;[D];浙江大学;2005年
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李雯;[D];兰州大学;2012年
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