190n80q是那种场效应管是什么器件?

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石墨烯场效应管(GFET)氧化层电容是算顶栅的还是算背栅的?
石墨烯场效应管(GFET)氧化层电容是算顶栅的还是算背栅的?请问计算GFET中石墨烯迁移率时,公式里有一项是氧化层的电容Cox,请问Cox是底栅介质SiO2的电容还是顶栅介质的电容?
没大明白你的问题,你是用石墨烯层做沟道还是做栅极?你说的氧化层是指什么,是硅片上的SiO2层吗?还是你用别的绝缘层? : Originally posted by sgquan at
没大明白你的问题,你是用石墨烯层做沟道还是做栅极?你说的氧化层是指什么,是硅片上的SiO2层吗?还是你用别的绝缘层? 石墨烯做沟道的,下面是SiO2,上面是Al2O3,请问你计算迁移率时用什么公式?我用的公式里面有一项是Cox,我就不清楚这个Cox指的是什么? Cox应该是绝缘层的电容,如果你的栅极是在Al2O3上面,那么Cox就是Al2O3的电容了,如果栅极是SiO2下面的硅的话,那么Cox就是SiO2的电容了。 最好是把结构图给我们看看。公式里的电容是源漏电极和栅极之间的绝缘层的电容。顶接触和底接触是依据源漏电极与半导体的接触方式不同而划分的。要是再加上栅极的话,应该有四种结构。 : Originally posted by jtamour828 at
最好是把结构图给我们看看。公式里的电容是源漏电极和栅极之间的绝缘层的电容。顶接触和底接触是依据源漏电极与半导体的接触方式不同而划分的。要是再加上栅极的话,应该有四种结构。 我说的再加上是,就是栅极的位置。 : Originally posted by jtamour828 at
最好是把结构图给我们看看。公式里的电容是源漏电极和栅极之间的绝缘层的电容。顶接触和底接触是依据源漏电极与半导体的接触方式不同而划分的。要是再加上栅极的话,应该有四种结构。 你好,我做的是双栅结构,既有顶栅电极又有背栅电极。你的意思是我在背栅电极上加压Cox就是背栅介质(SiO2)的电容,若我在顶栅上加压,Cox就是指顶栅介质(Al2O3)的电容,请问是这样吗? : Originally posted by sgquan at
Cox应该是绝缘层的电容,如果你的栅极是在Al2O3上面,那么Cox就是Al2O3的电容了,如果栅极是SiO2下面的硅的话,那么Cox就是SiO2的电容了。 你好,我做的是双栅结构,既有顶栅电极又有背栅电极。你的意思是我在背栅电极上加压Cox就是背栅介质(SiO2)的电容,若我在顶栅上加压,Cox就是指顶栅介质(Al2O3)的电容,请问是这样吗? : Originally posted by haohaowind at
你好,我做的是双栅结构,既有顶栅电极又有背栅电极。你的意思是我在背栅电极上加压Cox就是背栅介质(SiO2)的电容,若我在顶栅上加压,Cox就是指顶栅介质(Al2O3)的电容,请问是这样吗?... 导电沟道下面的电容 : Originally posted by jtamour828 at
导电沟道下面的电容... 所形成的导电沟道下面的绝缘层电容吧。双栅极我没接触过,要是两个栅极的话,半导体在两个栅极中间。那是不是两个栅极加不同方向的偏压啊?我觉得看看结构,再看看所加的偏压才能确定吧。好好研究一下结构,然后确定导电沟道是怎么形成的。 : Originally posted by haohaowind at
你好,我做的是双栅结构,既有顶栅电极又有背栅电极。你的意思是我在背栅电极上加压Cox就是背栅介质(SiO2)的电容,若我在顶栅上加压,Cox就是指顶栅介质(Al2O3)的电容,请问是这样吗?... 说的非常正确,在背栅电极上加压Cox就是背栅介质(SiO2)的电容,若在顶栅上加压,Cox就是指顶栅介质(Al2O3)的电容。如果双栅都加电压就是调控了...非常想知道你做双栅的目的是干什么? 请问测量迁移率的公式是什么?

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