磁控溅射法加偏压后,基底打火,一般是怎么回事

基底负偏压对直流磁控溅射CrN薄膜择优取向及表面形貌的影响,磁控溅射,磁控溅射玻..
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基底负偏压对直流磁控溅射CrN薄膜择优取向及表面形貌的影响
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射频磁控不起辉
我们实验室的射频磁控溅射做氧化物时起辉十分困难,Ar气压都加到5Pa了还是不起辉,初步感觉反射功率太大,请教各位有没有什么好办法可以射频起辉?
你试试低气压,0.1~1pa范围内怎么样?气压大的话气体分子的有效自由程减小,加速的能量小,自然起辉就困难了。不知道是不是这样的,呵呵,你试试吧 5 Pa也不高,可以再高点试试,如果射频源没问题,射频反射不严重,在50Pa下应该可以起辉的。 要检查一下是不是有问题了 压强用低一些试试,1Pa以下的,还有可能就是冷却不好,反射功率过高,靶表面看看污染情况。 我也遇到过这个情况,但是一般5Pa以上一点基本可以起辉,但是分子泵要在4Pa以下工作比较好,这样升压多少对分子泵有不良影响,不过5Pa~10Pa都有是可以试的,10Pa以上不能使用分子泵。基本射频起辉10~5Pa一定会起辉,不能起辉就与仪器的其他问题有关了。 mark学习一下&& 查看话题
【求助】射频溅射反射功率过高,不起辉,无自偏压
射频溅射过程中反射功率升高而没有注意到,现在不能起辉了,自偏压也没有,是不是设备坏了啊?怎么维修啊,请高手指点!!
急!还没有跟老板说呢!谢谢
很有可能是连接线或者电极短路了。
射频电源都有自保护功能,不容易坏的。 请详细描述你的电源以及出现的问题,光凭上面的描述很难推断具体的问题。
电源是国产的还是进口的?匹配器是手动还是自动的?腔室中的电缆以及电源到匹配器,匹配器到腔室中的电缆是否都没有问题?腔室的功率连接口是否有问题?
这些都可以用万用表快速、简单的检测出来。
有没有标准负载,用它可以测试电源和匹配器是否工作正常。 Originally posted by cord at
请详细描述你的电源以及出现的问题,光凭上面的描述很难推断具体的问题。
电源是国产的还是进口的?匹配器是手动还是自动的?腔室中的电缆以及电源到匹配器,匹配器到腔室中的电缆是否都没有问题?腔室的功率连接 ... 我使用的射频电源和射频匹配器都是国产的(北京泰科诺科技JCP-350磁控溅射镀膜机),通过手动调节电源功率,匹配器是自动的,反射功率过高时,通过调节c1,c2来调低反射功率,上次做实验时反射功率过大一段时间没有注意到,发现时,发现自偏压变为零,调整电源功率自偏压也不出现了。在再次开机做实验时,始终没有自偏压,但是调整电源功率,射频匹配器上前级功率和反射功率都有,但靶上不起辉。 今天一直没有空,没有去按您说的去检查电缆线。 以上描述不知道能否判断故障在哪里? 我的反射功率怎么也很高,但是正常起辉。。。。 : Originally posted by tonylei1990 at
我的反射功率怎么也很高,但是正常起辉。。。。 反射功率高了,溅射的速率会减小很多啊 : Originally posted by 遮天绿叶 at
反射功率高了,溅射的速率会减小很多啊... 太巧了,今天我调了下协调,我的反射功率就降下来了。。。原来怎么调也降不下来,好奇怪啊~ 反射功率要控制在两个刻度之内,否者太浪费了。
把腔室开清理一下,靶托打磨一下。
一般是短路,先换个靶材试试。不行就看看电源箱里面那些插指电容一样的东西有没有晒坏,烧穿。 : Originally posted by bsjia at
我使用的射频电源和射频匹配器都是国产的(北京泰科诺科技JCP-350磁控溅射镀膜机),通过手动调节电源功率,匹配器是自动的,反射功率过高时,通过调节c1,c2来调低反射功率,上次做实验时反射功率过大一段时间没 ... 请问该问题怎么解决的?在线等,谢谢 : Originally posted by cord at
请详细描述你的电源以及出现的问题,光凭上面的描述很难推断具体的问题。
电源是国产的还是进口的?匹配器是手动还是自动的?腔室中的电缆以及电源到匹配器,匹配器到腔室中的电缆是否都没有问题?腔室的功率连接口 ... 求问怎么用万用表测的? 不是有匹配箱吗?难道理论与实际就是相差很大吗?还是操作的问题,不是说匹配之后反射功率就是零啦吗?还有请教大神,那个真空腔那具体是增么消耗功率的? 通过手动调节电源功率,匹配器是自动的,反射功率过高时,通过调节c1,c2来调低反射功率,
这个匹配器到底是自动还是手动啊? 自动的话, 发射功率过高时匹配器会自己来调节, 而不需要手动.
估计不是你的电缆短路了就是你的溅射阴极(靶位短路了), 国产电源是有坏的问题, 但是还是先排除其它问题吧.
用万用表测试同轴电缆线两端看是否断路, 以及测试中心线跟绝缘层直接是否短路, 测试电缆线两端都从设备上拆下来.&& 查看话题
磁控溅射镀制非晶膜的基底材料,除了Si基底,还可以用什么?
磁控溅射镀制非晶膜的基底材料,除了Si基底,还可以用什么?
氯化钠单晶基底效果也不错哦 : Originally posted by Nicholas_Lee at
氯化钠单晶基底效果也不错哦 那请问这个基底和非晶相比,韧性怎么样呀? : Originally posted by xmcmx at
那请问这个基底和非晶相比,韧性怎么样呀?... 你说的韧性是薄膜的么?这个没有做过,不太清楚,感觉非晶薄膜都很脆的磁控溅射, 基底偏压、 靶材自偏压 、极板自偏压的区别?大侠,帮帮忙呗~看到一些概念,基底偏压,极板自偏压,靶材自偏压,后两个是不是一样的啊~还有基底有没有自偏压啊~小虫跪求_作业帮
拍照搜题,秒出答案
磁控溅射, 基底偏压、 靶材自偏压 、极板自偏压的区别?大侠,帮帮忙呗~看到一些概念,基底偏压,极板自偏压,靶材自偏压,后两个是不是一样的啊~还有基底有没有自偏压啊~小虫跪求
磁控溅射, 基底偏压、 靶材自偏压 、极板自偏压的区别?大侠,帮帮忙呗~看到一些概念,基底偏压,极板自偏压,靶材自偏压,后两个是不是一样的啊~还有基底有没有自偏压啊~小虫跪求,大侠出手啊~:cry:
在射频磁控溅射过程中,由于电子的迁移速度远大于离子的迁移速度,使得正半周期积累到靶上的电子数量远大于负半周期积累到靶材上的离子数量,使得射频磁控溅射过程中建立负的靶材自偏压。基底偏压指的是在实验过程中为了增强膜基结合力,用外电源给工件架或者基底加一个负偏压来吸引正离子。板级自偏压没有听说过。所谓自偏压,就是置身于等离子中的,由于表面接受到的离子和电子数量不同而形成的电...

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