有哪些好的麒麟芯片和高通哪个好可以推荐?

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GCC4.8编译器跑分为:整数764/G、浮点1120/G,使用LCC编译器跑分为:整数828/G、浮点1578/G。特别是其浮点性能已经接近了Intel IVY。3A2000也得益于新微结构实现相较于3A1000性能提升1倍,不仅一扫3A0时代的憋屈。从表中可以看出,龙芯和Intel,最大的差距在主频上。其次才是制程和微结构的差距。从表中可以看出,龙芯和Intel,最大的差距在主频上。其次才是制程和微结构的差距。龙芯正在流片的3A3000,针对GS464E的瓶颈做了改进,将定点发射队列从16项提升到32项,将浮点发射队列从24项提升到32项,并提升了缓存和主频。期待3A3000流片归来后的表现。申威因为某些原因申威始终带着神秘色彩,而且公开资料也非常少,即便了解到情况也怯于下笔。2015年申威的超算芯片性能达到Intel第一代至强PHI计算卡的水平,而且有着更好的性能功耗比,在设计理念上也更先进,并被用于采用纯自主技术的100P超算。笔者曾认为申威专注于超算芯片,放弃了桌面芯片的进一步研发,但事实证明笔者低估了申威的技术实力,在完成超算芯片研发的同时,申威还发布了新一代桌面芯片,该芯片采用中芯国际40nm制程,主频1.6G,功耗40-50W,根据SPEC2000测试,整数超过1000分(@1.6G主频)。目前,申威也积极进军党政军安全PC市场,并对龙芯、飞腾、兆芯等做安全市场的IC设计公司造成冲击。目前申威桌面芯片的性能基本满足党政军办公需求,真正的短板在软件支持上。此外,在服务器芯片方面,申威也正在积极开发一款16核服务器芯片。飞腾飞腾后仿制过德州仪器的DSP,做过Intel的安腾,仿制过流处理器,仿制过UltraSPARC\nT2,先后更换IA-64、SPARC、ARM三个指令集,将合作单位折磨的痛不欲生。在飞腾购买ARM指令集授权后,飞腾于2015年发布了自主设计的微结构和CPU。2015年,飞腾(ARM)有“火星”和“地球”2款产品。“地球”是一款4核CPU,微结构是国防科大自主研发的“小米”,是一款桌面CPU。“火星”的微结构也是“小米”,“火星”拥有64核心,主频达2G,制程工艺28nm,功耗120W。虽然“火星”单核性能较弱,但依靠核心数量优势,在Spec 2006的模拟器测试中,多核整数分数达672,浮点分数585,足以和Xeon E5-2699v3相媲美(Xeon E5-2699v3整数、浮点成绩分别是680和460)。诚然,目前的“小米”还无法与Intel的ivy、haswel相比,但在ARM阵营中,根据模拟器测试成绩,单核性能是强于ARM
Cortex A57的(笔者认为SPEC2006整数9.6/G是开auto parallel的结果,关auto\nparallel,使用GCC,将来实测有7/G就是胜利)。目前,“火星”和“地球”都在流片中,估计2016年年中会有好消息。君正君正在2015年和三星合作,使君正产品能够获得三星正在推广的Tizen系统的支持。并推出了针对智能穿戴芯片市场和物联网芯片市场的M200和X1000。这两块芯片最大的优势就是在性能够用的前提下,非常廉价且功耗很低。君正打算将X1000卖到15-20元,搭载X1000的开源开发板可以卖到100左右。极低的价格再加上芯片本身又集成了RAM,外围电路相对简单,X1000甚至可以跨界充当“超级单片机”。由于嵌入式芯片在软件方面也是底层+OS+应用软件,底层+OS往往由芯片供应商解决,而应用软件一般按需求定制。这导致在智能可穿戴市场,相当一部分可穿戴产品和应用软件具有专用性,软件生态链相对较短,加上应用需求的多样化,导致不能用一套通用方案来满足所有人的要求,所以在这个领域没有某个厂商可以实现垄断。因此,在智能穿戴市场未必会出现PC和手机市场那样赢着通吃的情况,而这就给君正一个机会,比如某个正在做WIFI音响的创客团队,就因飞思卡尔前段时间涨价30%,而选择了廉价的X1000芯片,并订购了1万片做测试。智能穿戴芯片和物联网芯片对性能要求不高,君正的产品完全满足性能要求,而Intel的爱迪生虽然性能强悍,但颇有大炮打蚊子的嫌疑。ARM阵营IC设计公司受制于相对较高的授权费,在芯片产量较小的情况下,并不具备价格上的竞争力。因为对性能要求较高的应用场景相对较少,大部分应用场景更关注低功耗、廉价、尺寸等因素,所以智能穿戴芯片和物联网芯片市场真正的竞争力不是性能,而是功耗、廉价和软件支持。因此,就不比较性能了。宏芯由于引进技术中,往往有这样一个过程,先贴牌,后仿制,再修改原始设计,最后在将引进的技术融会贯通后自主创新。因此,宏芯2015年发布的CP1,其实就是IBM的Power8的马甲。根据宏芯公布的PPT,要走完贴牌、仿制、修改、自主创新这个过程基本要到年的CP3。祝宏芯能用5年时间实现技术的消化吸收和推陈出新。兆芯2013年,上海市国资委下属的上海联投和台湾VIA合资兆芯,上海联投注资12亿元人民币,还承接了核高基1号专项,获得了不少于70亿的项目经费。兆芯的产品线很长,根据兆芯官网的资料,有智能机顶盒解决方案、智能手机解决方案、台式机解决方案、笔记本解决方案。其中智能机顶盒解决方案、智能手机解决方案的CPU核购买自ARM,GPU用的是购买自S3的技术,到底是买S3的技术授权,还是购买全套技术资料,因具体交易细节尚未披露也就不得而知了。如果是购买了S3全部知识产权,并可以此为平台开发自己的产品,那么兆芯(GPU)将会是景嘉微电子的强力竞争对手。兆芯的台式机和笔记本解决方案所用的X86芯片,但存在知识产权瑕疵——VIA的X86授权源自收购Cyrix,但在Intel收紧X86授权后,VIA遭受Intel专利大棒暴击,使VIA的桥片销声匿迹。在英特尔与美国联邦贸易委员会(FTC)达成协议后,英特尔需向VIA提供x86授权协议延长至2018年4月。目前,兆芯有ZX-A和ZX-C两款X86芯片,ZX-A是VIA Nano的马甲。2015年兆芯发布的ZX-C其实就是当年VIA做到一半,后被放弃掉的四核CPU,VIA/兆芯在拿到核高基的经费后,将当年的半成品做成成品。ZX-A和ZX-C使用同样的微结构,差距仅限于双核变四核,主频提升到2G,40nm变28nm。从图表中可以看出来,虽然ZX-C有2G主频,但是因为微结构性能有限,整体性能并不强。海思麒麟、展讯、联芯由于都是购买ARM IP核授权就索性一起说了。2015年海思和展讯在商业上都实现巨大成功——\n根据IC Insights发布 2015 年全球前十大 IC设计商排行与整体销售排名,海思和展讯双双挤入前10。麒麟950非常高的概率成为2015年能在市场上买到的安卓最强芯。而展讯在被紫光收购后,也成为不差钱的主,员工数量迅速扩充到4000余人,在拥有雄厚的资金后,和以廉价著称的联发科大打价格战,大幅侵蚀3G手机芯片市场,并将联发科打的丢盔弃甲,股价惨遭腰斩。而联芯则借小米的东风,将LC1860推向市场,虽然无法和海思和展讯相比,但毕竟是一个好的开始。不过在海思麒麟、展讯、联芯在商业市场取得成功的同时,也要注意到,这三家公司卖出的手机芯片没有一片是自主设计的微结构。三家公司都是购买ARM的CPU核、GPU核以及各种接口IP核,通过一定的流程,集成(高级组装)SOC。虽然通过购买国外技术大幅降低了技术门槛,缩短了研发周期,但整个过程根本不涉及最核心的微结构设计。因此,在芯片的性能、功耗、安全性、利润分配方面缺乏话语权,在完全依附于AA体系后,在发展路线和安全可控方面完全受制于ARM和谷歌。(因A72比A53强很多,麒麟950在表格中只列A72)由于都是购买ARM
IP核授权,产品高度同质化,性能差距的根源在于ARM不同微结构的性能差距,因此,麒麟950在性能上大幅领先SC9830A、LC1860。因为搭载三星猎户座8890和高通骁龙820的手机还无法在市场上买到,加上笔者对GK跑分不感冒,所以就比较已经在市场上可以买到的猎户座7420和麒麟950。麒麟950(4A53+4A72)和三星猎户座+4A57)比较的话,由于主频相差不大,就看A72和A57孰强孰弱了。根据华为公布的SPEC2006测试,A57整数得分为6,A72整数得分为6.7,因此,在CPU方面麒麟950也强于三星猎户座7420;GPU方面麒麟950是ARM的Mali T880MP4,猎户座7420是Mali T760MP8,根据ARM的资料,两者性能相当。结语在2015年的国产手机芯片中,麒麟在性能上950力压群雄,一枝独秀。在2015年的国产桌面芯片中,从微结构上看龙芯最佳,申威次之,兆芯再次之,而且GS464E和已Intel的Nehalem性能差距甚微,3A2000和I3 550的差距主要在主频上。从主频上看,ZX-C最高,申威四核次之,龙芯3A2000主频最低。因此,2015年的三款国产桌面CPU总体性能差距不大。据笔者了解,2016年VIA很可能拿不出Intel Nehalem、龙芯GS464E和AMD Steamroller一个等级的微结构,而申威在完成四核桌面芯片后,主要精力放在16核服务器芯片上,加上IC设计漫长的研发周期,因而笔者认为,2016年国产桌面芯片的最强者将从正在流片的“地球”和龙芯3A3000中产生。关于作者:铁流,自由撰稿人,瞭望智库特约科技观察员。半导体高薪职位推荐展讯通信:华虹设计:联芯科技:国民技术: (二维码自动识别)","updated":"T03:59:26.000Z","canComment":false,"commentPermission":"anyone","commentCount":8,"collapsedCount":0,"likeCount":50,"state":"published","isLiked":false,"slug":"","isTitleImageFullScreen":false,"rating":"none","titleImage":"/27de584ed4c22bf7d24f9_r.png","links":{"comments":"/api/posts//comments"},"reviewers":[],"topics":[{"url":"/topic/","id":"","name":"中央处理器 (CPU)"},{"url":"/topic/","id":"","name":"芯片(集成电路)"},{"url":"/topic/","id":"","name":"半导体"}],"adminClosedComment":false,"titleImageSize":{"width":385,"height":211},"href":"/api/posts/","excerptTitle":"","column":{"slug":"MooreRen","name":"半导体行业观察"},"tipjarState":"inactivated","annotationAction":[],"sourceUrl":"","pageCommentsCount":8,"hasPublishingDraft":false,"snapshotUrl":"","publishedTime":"T11:59:26+08:00","url":"/p/","lastestLikers":[{"bio":null,"isFollowing":false,"hash":"0e0da2bc87da7bbe81d8d2feae2fae82","uid":486000,"isOrg":false,"slug":"ying-zi-feng-ge","isFollowed":false,"description":"","name":"影子风阁","profileUrl":"/people/ying-zi-feng-ge","avatar":{"id":"da8e974dc","template":"/{id}_{size}.jpg"},"isOrgWhiteList":false},{"bio":"西班牙留学生","isFollowing":false,"hash":"23bfc632b164de042b512fb2c0df9cbe","uid":780200,"isOrg":false,"slug":"campesino-55","isFollowed":false,"description":"","name":"campesino","profileUrl":"/people/campesino-55","avatar":{"id":"da8e974dc","template":"/{id}_{size}.jpg"},"isOrgWhiteList":false},{"bio":"","isFollowing":false,"hash":"f78d0db5dce","uid":20,"isOrg":false,"slug":"chou-you-lu-xing-jia","isFollowed":false,"description":"","name":"臭鼬旅行家","profileUrl":"/people/chou-you-lu-xing-jia","avatar":{"id":"v2-bbdd83e32fe6dfdac57ea7741dceabf7","template":"/{id}_{size}.jpg"},"isOrgWhiteList":false},{"bio":null,"isFollowing":false,"hash":"c4e3b15dcd088","uid":04,"isOrg":false,"slug":"cui-yu-peng-13","isFollowed":false,"description":"","name":"lonng","profileUrl":"/people/cui-yu-peng-13","avatar":{"id":"da8e974dc","template":"/{id}_{size}.jpg"},"isOrgWhiteList":false},{"bio":"","isFollowing":false,"hash":"20ba4563ffc73d0e4bfaf03c0a9c06da","uid":12,"isOrg":false,"slug":"zhong-yi-wen-4","isFollowed":false,"description":"迷影党成员","name":"北野文","profileUrl":"/people/zhong-yi-wen-4","avatar":{"id":"e20e8de91ea3e7e5feed","template":"/{id}_{size}.jpg"},"isOrgWhiteList":false}],"summary":"一直以来缺“芯”少“魂”是中国计算机产业的心病,除国防军工和信息安全领域使用龙芯、申威、飞腾等国产CPU之外,民用市场上的国产计算机基本没有“中国芯”,中国每年需要进口的芯片的资金已经超过每年进口的石油总价,高达2000多亿美元。近年来,国家对…","reviewingCommentsCount":0,"meta":{"previous":{"isTitleImageFullScreen":false,"rating":"none","titleImage":"/3f86d0fddfe_r.png","links":{"comments":"/api/posts//comments"},"topics":[{"url":"/topic/","id":"","name":"MOS(微软Office专家认证)"},{"url":"/topic/","id":"","name":"半导体"},{"url":"/topic/","id":"","name":"招聘"}],"adminClosedComment":false,"href":"/api/posts/","excerptTitle":"","author":{"bio":"摩尔精英.创始人兼CEO","isFollowing":false,"hash":"a041bc84af3b04f2298645","uid":488500,"isOrg":false,"slug":"jyzzzz2012","isFollowed":false,"description":"Linkedin主页:/in/jyzhang8 个人微信:MooreRen001\n摩尔精英()是全球领先的专业半导体服务平台,愿景是“让中国没有难做的芯片”,通过连接全球半导体精英,重构半导体基础设施,打造行业的效率杠杆。旗下业务包括“半导体垂直招聘、芯片设计服务、运营供应链服务、半导体媒体智库、培训直播App”。覆盖包括“IC设计、EDA/ IP、晶圆代工、封装测试、半导体设备与材料、方案设计、分销代理”等半导体全产业链1500多家企业和50万专业用户。","name":"张竞扬 摩尔精英","profileUrl":"/people/jyzzzz2012","avatar":{"id":"v2-5e305b94f675efe2d64427","template":"/{id}_{size}.jpg"},"isOrgWhiteList":false},"column":{"slug":"MooreRen","name":"半导体行业观察"},"content":"来源:芯苑网
小桂讲起FinFET当然是很advanced的东西,尤其大陆现在还停留在28nm的时候,自然对这玩意还很陌生,不过究其源头还是要从传统的平面MOS讲起。传统的MOS我们已经非常烂熟于胸了,靠栅极控制Gate的“开”和“关”,所以很多国内的做MOS的人都说是“门电路”,或者说“开关管”。也有\n很多教材直接比喻成水龙头,这些都是很不错也很形象的比喻。当然要求就是开的时候就要沟道电流要大,关的时候漏电流要尽可能小。要满足上面提到的“High Ion”以及“Low Ioff”,那我们就来探讨一下传统MOS在这两块是如何突破的?首先讲\"High \nIon\",它取决于Gate对沟道的控制能力,也就是书上讲的跨导(Gamma),而这个东西主要取决于Cox,所以我们一直在减小GOX的厚度,并且一\n路发展到Advance的HKMG,当然Isat还有一个决定因素就是载流子的迁移率(Carrier \nMobility, u),它取决于晶格以及应力,所以到了High-K时代的时候需要引入Strain \nSilicon或SiGe来提升迁移率。接下来到“Low Ioff”,它主要来自Short-Channel-Effect \n(SCE),也就是DIBL效应,或者叫做“沟道长度调制效应” \n(我觉得他们都是一样的原理只是命名不一样而已)。所以要降低Ioff就必须要降低DIBL效应,所以传统的做法是LDD+Spacer+ \nPockage + AntiPunchThrough等等。(这些理论如果不懂,可以查阅前面关于MOSFET的文章)到了HKMG时代,我们的Cox足够大的时候,沟道表面的Subthreshold漏电以及DIBL漏电都应该没有问题了,主要的漏电来自于远离沟道表面\n的PN junction到Well里了,所以到了28nm再往下就衍生出FD-SOI制程,做一个BOX (Buried OXide)使得PN \njunction停留在BOX上,这样就解决了Body漏电的问题。(详细参阅我之前的文章&&)从FD-SOI继续往下shrink的时候,PN junction也再shrink(UTB: Ultra-Thin-Body \nMOSFET),Metal-Gate的line也在shrink,又遇到新的挑战。第一个挑战是随着Gate长度减小,Gate \nLine的random \nroughness已经足以导致Line宽度的Uniformity变得不可控了(就类似GOX厚度薄到一定程度已经薄到比原子直径还小就没法再薄了),\n第二个挑战是Thin-Body带来的掺杂原子随机跳跃(RDF: Random Dopant \nFluctuation),因为沟道长度太小了,源漏极的电子随机就可能进入沟道里面,导致沟道浓度发生变化,Vt不可控。虽然遇到了上面的两个挑战,人类不会就此罢休,所以发明了Double-Gate \nMOSFET,因为我们上面讲了,主要的漏电来自于沟道下面的Body,可是我又不能降低Body厚度,所以发明了不降低Body厚度,我在body两边\n各加一个Gate夹击Body区总可以了吧,类似JFET的原理。但是这种Double-Gate没法生产,总不能把Wafer减薄然后在背面再做一个Planar-Gate吧?所以就想办法把Source/Drain\n立起来,两边各加一个Gate形成一个十字架夹击沟道,而这两个Gate类似鱼的鳍(Fin),所以叫做鳍型场效应晶体管(FinFET)。从此占领半导\n体界超过40年的平面MOSFET被3D的FinFET取代。接下来讲一下FinFET的结构及原理,我们还是把它尽可能翻译成传统的平面MOSFET,结构上讲,它的Source/Drain都被立起来了,而\nGate是在中间的两边夹起来的,所以沟道长度“L”就是中间夹起来的Gate的长度,而垂直方向自然就是沟道宽度“W”也就是Fin Height \n(Hfin),而Source/Drain的宽度也就是Fin的宽度(Wfin),每两个Fin之间的距离就是Fin的pitch(Pfin),这些只能看图理解了。有个有趣的现象是,Lg与Wfin的比值直接影响了DIBL,UC-Berkeley在2001年在IEEE上发表的研究表明Lg/Wfin必须&1.5才能有效抑制DIBL (原理我还没想通)。而Lg必须越小越好,因为它直接决定了Idsat,所以Wfin必须是Lg的2/3。重点来了,在FinFET里面,最小尺寸已经不是传统MOSFET的沟道长度Lg了,而是Fin Width (Wfin),所以所谓的16nm或14nm都是指Wfin,千万不要搞错了!所以Wfin才是黄光制程的挑战。而且Fin越小对Hot-Carrier越好。那么这Wfin怎么做呢?比较经典的是用“Spacer”技术实现,这样就不依赖黄光制程了。而且U%也能得到保障,而Fin-\npitch就取决于形成spacer的那条line的宽度,当然这个pitch也不是越小越好,要根据fin的高度来balance,因为要考虑等下\nSource/Drain离子植入的Shielding Effect。另外在FinFET的结构上,还有Double-FinFET \n(DG-FinFET)和Tri-FinFET之分,主要差别在于那个Fin被Gate包围的部分有三个面,两侧肯定是Gate区域了,一个叫Front\n Gate(1st Gate),一个叫Back Gate (2nd \nGate),那么顶部呢?如果顶部是厚Oxide则它不属于Channel则称之为Double \nGate,如果顶部和侧边一样是薄GOX,则称之为Tri-Gate。前者(DG-FinFET)的好处是厚的GOX充当了Gate蚀刻的阻挡层\n(Hardmask),所以不需要特别高的Gate蚀刻选择比。但是Tri-Gate的驱动电流比较大因为沟道宽度增加了(W=Wfin+2*Hfin)。当然还有Quard-Gate就是包一圈的,那种process太复杂了,我就不介绍了。另外再介绍什么叫SOI-FinFET?什么叫Bulk-FinFET?上面介绍的FinFET结构,我们可以看出源漏都是立起来的结构,所以几乎不需要\n衬底了,所以在FinFET结构里面Substrate几乎是用来支撑的,然后在上面长一层厚厚的Field \nOX隔离开,然后在上面做源漏Si或者SiGe的沉积和蚀刻即可,所以我们称之为SOI-FinFET结构,但是这种结构就是有SOI技术天生的缺点,无\n法导热(参阅《》)。所以逐渐Bulk-FinFET成为主流并且制程更加简单。最后介绍一下FinFET的Layout,其实在layout上应该还是和传统的CMOS一样,只是Source/Drain变成了条状,这个比较容易理解。还有一个跟Layout相关的因素就是晶向,我们都知道在不同晶向上载流子迁移率是不同的,&111&比&100&大,所以\nBJT用&111&而MOSFET用&100&,因为&100&的界面特性比较好。但是到了3D时代,你的\nLayout角度发生变化的时候你的电流走向就会朝着不同晶向在走,所以很容易有的朝着&110&,有的朝着&100&在走,这\n样的结果就是各个晶体管之间的Idsat不同了。如果我们继续选用&110&晶向平边的衬底,则垂直衬底表面为&100&晶向,\n则Fin的垂直于平边时,它的鳍(Fin)为(110)晶面,此时电子迁移率下降,空穴迁移率上升。如果Fin与平边成45度夹角,则Fin的晶面为\n(100),迁移率变化则相反。(我也不懂书上看来的)讲完了Normal的FinFET结构,我们继续来讲FinFET如何做HV器件,因为我们的CPU的供电一定都是外围电路(18BCD),所以输入给处\n理器的电压一定是&=1.8V的,所以FinFET一定要有1.8V或者3.3V的HV器件来处理电压给Core \nFinFET,那如何做HV-FinFET?其实也很简单就是在Drain端加一个漂移区(Drift)的Fin-Extention即可。制程难点以及Inline量测的challenge我就直接引用AMAT的material了,我也不懂期待有人来补充吧。转载请注明来自 ,本文标题:职位推荐:10K-20K/杭州/工作经验不限/本科及以上/全职10K-15K/上海/3年以上/硕士及以上/全职10K-20K/上海/工作经验不限/本科及以上/全职","state":"published","sourceUrl":"","pageCommentsCount":0,"canComment":false,"snapshotUrl":"","slug":,"publishedTime":"T15:15:05+08:00","url":"/p/","title":"《FinFET-3D Transistor》-Strive for Moore’s Law from TSU-Jae King Liu","summary":"来源:芯苑网 小桂讲起FinFET当然是很advanced的东西,尤其大陆现在还停留在28nm的时候,自然对这玩意还很陌生,不过究其源头还是要从传统的平面MOS讲起。传统的MOS我们已经非常烂熟于胸了,靠栅极控制Gate的“开”和“关”,所以很多国内的做MOS的人都说是…","reviewingCommentsCount":0,"meta":{"previous":null,"next":null},"commentPermission":"anyone","commentsCount":6,"likesCount":36},"next":{"isTitleImageFullScreen":false,"rating":"none","titleImage":"/9ef10af948c51b5462b9_r.png","links":{"comments":"/api/posts//comments"},"topics":[{"url":"/topic/","id":"","name":"半导体产业"},{"url":"/topic/","id":"","name":"摩尔定律"},{"url":"/topic/","id":"","name":"招聘"}],"adminClosedComment":false,"href":"/api/posts/","excerptTitle":"","author":{"bio":"摩尔精英.创始人兼CEO","isFollowing":false,"hash":"a041bc84af3b04f2298645","uid":488500,"isOrg":false,"slug":"jyzzzz2012","isFollowed":false,"description":"Linkedin主页:/in/jyzhang8 个人微信:MooreRen001\n摩尔精英()是全球领先的专业半导体服务平台,愿景是“让中国没有难做的芯片”,通过连接全球半导体精英,重构半导体基础设施,打造行业的效率杠杆。旗下业务包括“半导体垂直招聘、芯片设计服务、运营供应链服务、半导体媒体智库、培训直播App”。覆盖包括“IC设计、EDA/ 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最近,伯克利分校成立了一座新的研究中心专注于研发NC-FET。英特尔(Intel)和台积电(TSMC)都参加了,也分别投资了14万美元。“如果我们能吸引更多成员,就能实现伟大的成果,目前的规模仍小于一般的政府合约。”此外,包括Globalfoundries、三星(Samsung)、Synopsys和台积电等公司都加入了伯克利组件建模中心,该中心创建的BSIM模型可以为软件设计工具解读晶圆厂的实体数据。“我们正为免授权的新组件准备精简模型,不过没有什么东西是真正免费的。”他指出,FinFET模型就让至少12位研究人员花了11年的时间。图2:NC-FET在传统晶体管上增加了创新的铁电层与NC-FET并驾齐驱的是,研究人员正使用十多种备选材料层来开发2D半导体,这些材料层能以分子或原子厚度进行沉积。胡正明透露,“其中一种材料层可以制造出完美的晶体,最终成为理想的薄体材料,让我们无需担心量子效应。”“2D半导体着实令人振奋,因为不管是用于内存还是逻辑单芯片多层整合……以氧化物分隔的电路层……使用像钼原子等原子自组装……这真的令人相当兴奋,可说是让我们得以继续进行研究的理想接口。”胡正明并展示了在于去年12月首次提出的2D NMOS和PMOS组件成果,这些组件被沉积于单硅层上,“并自行堆栈。”这种技术可使晶体管尺寸缩小45%。图3:仅以一个分子或原子厚的分层即可搭建2D半导体组件Source:Synopsys这种新设计基本上是目前FinFET和完全耗尽型绝缘硅(FD-SOI)工艺中使用的各种薄体组件变异。他预测这些使用各种新材料的设计将具有很长的寿命。鳍高晶体管由于具有性能方面的优势,可望继续流行。未来的工艺将混合不同高度的鳍片,以便针对特定用途优化工艺,胡正明指出,“我可以预见薄体设计将一直延用到微影技术。”当今的FinFET和FD-SOI结构“可以一直发展到全包覆式晶体管(GAA)或柱或导线,取决于哪一种制造起来最经济实惠……一切都和成本与性能密不可分。”胡正明对于穿隧晶体管和自旋电子的看法就没那么乐观。穿隧晶体管的导通电流较当今组件的更低,使其仅适用于物联网节点。自旋电子必须使用全新的逻辑工具组,因而并不实用。他指出,“我们的设计基础设施非常昂贵……真的难以用于导入一种使用完全不同概念的晶体管。”图4:de Geus表示,在产业成熟期之后将迎来第二春。现在正是芯片设计业的艰难时期。随着半导体公司持续整并以因应不断攀升的芯片制造成本,新的设计案和EDA工具销售情况都“很平淡”,Synopsys首席执行官Aart de Geus引用数据指出,芯片业营收的复合年成长率(CAGR)为4.4%,而“去年和今年的成长率更趋近于零。”尽管如此,就像胡正明一样,de Geus在大会开幕时对于该公司在EDA方面的进展仍显得乐观。de Geus表示:“我了解这个产业正承受经济的压力和变化,但我们正处于再次改变世界的浪潮中……让每样事物实现智慧化的机会十分巨大,并将彻底改变这个世界。”de Geus并打趣地说,IoT正象征‘无限乐观思维’(ImmenselyOptimistic Thinking),因为,“它虽不足以驱动半导体销量,但十分适于将我们与真实世界的实体特性连接在一起。无论如何,如果我们能将性能功耗比再提高10至 100倍,那么IoT将出现令人意料不到的爆炸式成长。”尽管FinFET还有诸多早期的问题,但Synopsys已经以14/16nm工艺投片超过50种测试芯片了。例如,瑞萨电子(Renesas Electronics)有一款高阶车载信息娱乐SoC就在台积电16FF+工艺中导入Synopsys的完整工具流程。de Geus并引用一些其它进展: 今年夏天推出的测试算法将加快运作时间,并减少25%的测试向量· 一款14nm的网络SoC使用IC CompilerII使导线长度缩短了17%· 一款7nm测试芯片以ICC II在1%的PTSI内完成了99%的端点布线· 使用Prime Time系统,让包含5,000万个实例和20个场景的设计在8小时内完成ECO收敛一款名为Cheetah的最新验证算法可自动适应处理器上的CPU和GPU核心,使RTL级的工作速度快上5倍。De Geus还介绍了Synopsys透过收购包括Coverity等公司,建立了日益成长中的安全业务。“对于我们来说,这已经是一个1亿美元的业务了,因此,它不再只是业余爱好,而是一个极其关键的方向,”De Geus表示,“每个物联网设备相当于银行中的一扇窗户……事实上,世界上的所有软件中都有这样的窗子。”De Geus指出。 来源:RickMerritt EE Times展讯职位推荐:15K-20K/上海/3年以上/本科及以上/全职22K-35K/上海/5年以上/硕士及以上/全职","state":"published","sourceUrl":"","pageCommentsCount":0,"canComment":false,"snapshotUrl":"","slug":,"publishedTime":"T14:59:15+08:00","url":"/p/","title":"FinFET教父说半导体产业还能持续发展100年,我是认真的","summary":"“不必担心‘摩尔定律’(Moore’s law)走到尽头,因为在整个半导体发展蓝图上还有许多好办法。”被誉为“FinFET教父”的中研院院士胡正明在日前于美国举行的“新思科技产品用户研讨会”(Synopsys Users Group;SNUG)上指出,新的晶体管概念能够为芯片产业…","reviewingCommentsCount":0,"meta":{"previous":null,"next":null},"commentPermission":"anyone","commentsCount":0,"likesCount":5}},"annotationDetail":null,"commentsCount":8,"likesCount":50,"FULLINFO":true}},"User":{"jyzzzz2012":{"isFollowed":false,"name":"张竞扬 摩尔精英","headline":"Linkedin主页:/in/jyzhang8 个人微信:MooreRen001\n摩尔精英()是全球领先的专业半导体服务平台,愿景是“让中国没有难做的芯片”,通过连接全球半导体精英,重构半导体基础设施,打造行业的效率杠杆。旗下业务包括“半导体垂直招聘、芯片设计服务、运营供应链服务、半导体媒体智库、培训直播App”。覆盖包括“IC设计、EDA/ 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