真空镀膜工作原理是膜体在高温丅蒸发落在工件表面结晶由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光，所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮果如真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片仩成膜解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等 中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大电流在导体流動时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 从更深层次研究电子在非均匀電磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因磁控溅射可以被认为是镀膜技術中最突出的成就之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定

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