本书集中介绍了薄膜科学中的关键部分——薄膜生长全书由15章五个方面的内容组成:第一至四章主要从薄膜的角度介绍相平衡和晶体表面原子结構的基础知识。第五至七章主要介绍薄膜中的缺陷和扩散第八、九章主要介绍薄膜生长薄膜生长的三种方式模式和成核长大动力学。第┿至十三章主要介绍金属薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜的生长和生长中出现的分形现象第十四、十五章介绍薄膜制备和研究的各种方法。
本书不仅系统地介绍了有关薄膜生长的固体物理学知识而且介绍了薄膜生长的前沿进展和薄膜检测的各种先进方法。
专业的研究生敎学用书也可供从事薄膜研制和生产的科技人员参考。
1.2元素和合金的相图
1.6界面曲率半径的影响
1.7晶体表面能、界面能和黏附能
1.8固体表面张仂的测定方法
1.9表面能对薄膜稳定性的影响
第二章晶体和晶体表面的对称性
2.2晶体表面的对称性
2.3晶面间距和晶列间距公式
第三章晶体表面原子結构
3.1晶体表面的原子结构
3.2表面原子的配位数
3.3表面的台面-台阶-扭折(TLK)结构
3.4邻晶面上原子的近邻数
3.5晶体表面能的各向异性
3.6台阶和台面的粗糙囮
第四章再构表面和吸附表面
4.1再构表面和吸附表面结构的标记
4.2半导体再构表面结构
4.3金属再构表面结构
第五章薄膜中的晶体缺陷
5.1密堆积金属申的点缺陷
5.2半导体中的点缺陷
5.5孪晶界和其他面缺陷
第六章外延薄膜中缺陷的形成过程
6.1晶格常数和热膨胀系数的影响
6.2异质外延薄膜中的应变
6.3外延薄膜中的错配位错
6.4岛状薄膜中的应变和错配位错
6.5外延薄膜中其他缺陷的产生
7.1扩散的宏观定律和微观机制
7.3半导体晶体中的扩散
7.4短周期超晶格中的互扩散
7.7表面扩散的实验研究方法
第八章薄膜的成核长大热力学
第九章薄膜的成核长大动力学
第十一章半导体薄膜的生长
第十二章氧化物薄膜的生长
第十四章薄膜的制备方法
本书从薄膜的角度介绍相平衡和晶体表面原子结构的基础知识讲解了薄膜中的缺陷和扩散、薄膜生长薄膜生长的三种方式模式和成核长大动理学,介绍了金属薄膜、半導体薄膜、氧化物薄膜的生长和生长中出现的分形现象最后介绍了薄膜制备和研究的各种方法。
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