分析测试百科网讯 明亮的落地玻璃窗琳琅满目的仪器设备,严肃认真嘚研究人员穿梭忙碌这是分析测试百科小编对复旦大学先进材料实验室的第一印象。 复旦大学先进材料实验室是教育部“985工程”二期重點建设项目之一于2005年4月成立,通过物理......
样品制备对扫描电镜除了硅片还有啥观察来说也臸关重要样品如果制备不好可能会对观察效果有重大影响。通常希望观察的样品有尽可能好的导电性否则会引起荷电现象,导致电镜無法进行正常观察;另外样品还需要有较好的导热性否则轰击点位置温度升高,使得试样中的低熔点组......
热氧化物或裸硅表面形成二氧化矽层在氧化剂的存在下在升高的温度下,给过程称为热氧化通常生长热氧化层的在水平管式炉中。温度范围控制在900到1200摄氏度使用湿法或者干法的生长方法。热氧化物是一种生长的氧化物层相对于CVD法沉积的氧化物层,它具有较高的均匀性和更高的介电强度这是一个極好的作为绝缘体的介电层。大多数硅为基础的设备中热氧化层都扮演着非常重要的角色,以安抚硅片表面作为掺杂障碍和表面电介質。
1刻蚀率测定2,金属打线测试3金属晶圆4,电性绝缘层
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