日本Advance Riko公司推出的桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃可对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。
? SiC氧化膜的生成囷激活;
? 半导体开发与研究;
? 玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理;
? 作为热处理炉对高熔点材料进行热处理;
以大功率点聚焦的紅外加热以及超高的反射效率可以在10秒内将样品加热到1800℃并可直接淬火;红外线灯加热提供清洁加热减少灰尘和气体的产生。#以大功率點聚焦的红外加热以及超高的反射效率可以在10秒内将样品加热到1800℃并可直接淬火;可应用于玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。#
? 紅外线灯加热提供清洁加热减少灰尘和气体的生成;
? 通过USB与电脑连接输入温度参数;
? 在加热过程中,在电脑屏幕显示温度
设备结構以及样品支架:
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