如何形成欧姆接触含义

如何形成欧姆接触是半导体设备仩具有线性并且对称的电流-电压特性曲线


是指金属与半导体的接触,

远尛于半导体本身的电阻

作时大部分的电压降在于活动区(Active region)而不在接触面。 欲形成好的如何形成欧姆接触有二个先决条件: (1)金属与半導体间有低的界面能障

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本文关注金属与半导体的肖特基勢垒概念性理解及与之相关的如何形成欧姆接触不涉及应用工艺细节。

我们知道N型半导体与P型半导体接触会因为载流子的扩散形成耗盡区,从而形成PN节当金属与半导体接触时会怎样呢?

其中一种情况是金属与N型半导体接触,半导体中的截流电子扩散进入金属从而茬半导体中形成耗尽区与内建电场,如下图

这种情况与PN节是类似的

如何确定电子是由半导体进入金属还是从金属进入半导体呢,这就需偠使用能级的概念来理解

金属材料的导带与价带是有重叠的,费米能级就处于导带中半导体的导带与价带是分离的,其费米能级处于導带与价带之间对于本征半导体,费米能级处于正中间对于N型半导体,费米能级靠近导带P型半导体中费米能级靠近价带。

另外要知噵的概念是材料的功函数(work function)和半导体的电子亲和力(electron affinity)功函数表示要让电子从材料中逃逸到自由空间中的最小热能量,电子亲和力表示电子从洎由空间掉落到半导体导带底部所释放的能量两个概念见下图:

而当两种材料接触时,载流子扩散流动必须使接触面两侧的费米能级相等才能达到平衡状态所以接触后半导体中的能带会因内建电场而弯曲,如下图:

这样就在接触面形成了电子的势垒称为肖特基势垒(schottky barrier)。形成整流节(rectifying junction)肖特基二极管就是利用该原理工作的。

下图中为该整流节在平衡情况、正向偏压、负向偏压下能级情况以及该整流节的VI特性:

正向偏压时由于外电场的存在抬高了半导体侧的费米能级使得半导体中的电子面临的势垒高度降低,从而更容易流过接触面进入金属负向偏压时加大了该势垒。

很多时候我们并不想在金属与半导体接触面出现该势垒比如半导体器件用金属引线引出信号。理论上有两種方式一是降低势垒高度,使载流子不需要很高的能量就可以跃过势垒;二是大幅减小势垒宽度使载流子以隧穿的方式穿过。

如果通過选择不同材料使半导体的费米能级小于金属的费米能级,则接触面能带情况将如下图所示:


这样电子从半导体进入金属没有势垒而從金属进入半导体只有很小的势垒,比较小的电压就可以使电子轻松跃过势垒进入半导体这样就是如何形成欧姆接触(ohmic contact)的情况,当然其VI曲線并不是像理想欧姆电阻一样的直线而是近似直线。

另一种方式是通过重掺杂的方式使形成的势垒宽度很窄,这样电子可以不用跃过勢垒而直接通过隧穿流过接触面正向偏压、负向偏压与VI特性(黑色曲线)如下图:

P型半导体与金属的接触面的分析思路与N型半导体类似,只昰载流子由电子变为空穴

在实际应用中还有很多其它因素影响金属与半导体接触面的特性,超出本文范围暂不讨论。

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