上传用户：zwxpblmjil资料价格：5财富值&&『』文档下载 ：『』&&『』学位专业：&关 键 词 ：&&&&&&&权力声明：若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请点击。摘要:（摘要内容经过系统自动伪原创处理以避免复制，下载原文正常，内容请直接查看目录。）光刻胶是完成微电子制作光刻工艺的症结性基本资料，它决议着微电子技巧的成长程度。光刻胶平日由成膜树脂、感光剂、溶剂和一些添加剂构成。在光刻胶的研制方面，我国与国外比拟，还有比拟年夜的差距。本文彩用新的办法，分解出了一系列光刻胶成膜树脂的单体，包含N一苯基甲基丙烯酰胺、N一（p一羟基苯基）甲基丙烯酰胺、N一（p一乙酰氧基苯基）甲基丙烯酰胺、对特丁氧酰氧基苯乙烯（PTBOCS）、N一羟基一5一降龙脑烯一2，3一二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯和N一羟基一3，6一内氧桥一4一环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯；并对它们停止了FT一IR和1H NMR表征。制备了两种经常使用的248nm深紫外光刻胶用光致酸产生剂（PAG）对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐和N一羟基邻苯二甲酰亚胺对甲基苯磺酸酯，对它们停止了FT一IR和1H NMR表征，测试了它们的热机能、紫外光接收机能和消融机能。成果注解它们合适作深紫外光刻胶的PAG。经由过程自在基聚合的办法，采取苯乙烯和后面制备的单体分解了三种聚合物聚苯乙烯共N一（p一羟基苯基）马来酰亚胺，聚N一（p一羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N一苯基马来酰亚胺和聚N一苯基甲基丙烯酰胺共N一（p一羟基苯基）马来酰亚胺。测试了它们的相干机能。成果注解它们的玻璃化温度Tg均在250℃以上，具有优越的耐低温机能、消融机能、成膜机能和亲水性，可以用作耐低温紫外正型光刻胶的成膜树脂。应用后面曾经分解的单体PTBOCS和N一羟基一3，6一内氧桥一4一环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯，制备了新的聚合物聚PTBOCS共N一羟基一3，6一内氧桥一4一环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯，对它停止了FT一IR表征，测试了它的热机能和紫外接收机能；成果注解，该聚合物具有优越的耐热机能（Tg=175℃）、248nm深紫外光透光机能、消融机能和成膜机能，而且与基体有优越的联合力，合适作248nm深紫外光刻胶的成膜树脂。而别的一种新的聚合物聚PTBOCS共N一羟基一5一降龙脑烯一2，3一二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯因其消融性欠好，不合适作光刻胶的成膜树脂。初次将聚N一（p一羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N一苯基马来酰亚胺和聚N一苯基甲基丙烯酰胺共N一（p一羟基苯基）马来酰亚胺用作耐低温的紫外正型光刻胶的成膜树脂；经由过程与感光剂重氮奈醌磺酰氯（DNS）和阻溶剂二苯甲酮复配，较具体地商量了聚N一（p一羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N一苯基马来酰亚胺—DNS系紫外正型光刻胶的配方构成和与之配套的光刻工艺前提，注解它的成像反差γ=3。001，它的等离子蚀刻速度可以与线形酚醛树脂—重氮萘醌（DNQ）系紫外光刻胶的比拟，它的分辩率可以到达1μm阁下。开辟了一种新的248nm深紫外单层光刻胶系统，成膜树脂采取聚PTBOCS共N一羟基一3，6一内氧桥一4一环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯，PAG采取对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐，阻溶剂为（4，4’一二特丁氧酰氧基）二苯基丙烷，溶剂采取11（v/v）的乙二醇单甲醚乙酸酯（EGMEA）和乳酸乙酯（EL）的混杂液，显影液为2。38%（w/w）氢氧化四甲基铵（TMAH）溶液。商量了该系光刻胶的配方构成和与之配套的光刻工艺前提，成果注解这是一种情况稳固的化学增幅型深紫外光刻胶。它的抗蚀刻才能与线性酚醛树脂—DNQ系光刻胶的根本雷同，初步的光刻试验注解，它的分辩率至多在0。5μm阁下，它的感光敏锐度为22mJ/cm2。分离商量了耐低温紫外正型光刻胶聚N一（p一羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N一苯基马来酰亚胺—DNS系和248nm深紫外光刻胶聚PTBOCS共N一羟基一3，6一内氧桥一4一环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯—对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐系统的显影成像机理。Abstract:Photoresist is the key to complete the process of micro electronic production of basic information, which determines the extent of the development of micro electronic technology. On weekdays, the film is made up of film resin, photosensitive agent, solvent and some additives. In the development of the photoresist, the comparison between China and foreign countries, there is a big gap. The color with new way, decomposition of the a series of photoresist film resin monomer, contains n phenyl methyl acrylamide, n (P - hydroxy phenyl) methyl acrylamide, n (P acetyl phenyl) methyl acrylamide, butoxy ethoxy styrene PTBOCS n a hydroxyl a Jianglong brain ene 2, 3 12 formyl imine methyl acrylate and N - hydroxy - 3, 6 of a bridging oxygen 4 ring hexene dimethyl i and they stopped FT - IR and 1H NMR. Preparation of the two frequently used 248 nm deep UV photoresist with photo acid generating agent (PAG) methyl benzene sulfonic acid triphenyl sulfonium salts and n a hydroxyl phthalic dimethyl imide of methyl benzene sulfonate, to stop the FT - IR and 1H NMR to test their thermal and UV light receiver and ablation function. The results note that they are suitable for deep ultraviolet lithography PAG. Through the process of free radical polymerization, styrene and the back of the preparation of a single body decomposition of three kinds of polymer polystyrene N a total of P (p a) of maleic acid (P), a group of N a total of N phenyl maleic and N a group of a total of 1 N 1 (1. Their coherent functions are tested. The results showed that the glass temperature of Tg was above 250, which has excellent resistance to low temperature, ablation, film forming and hydrophilicity, which can be used as a film forming resin for low temperature resistant UV positive photoresist. Matrix (Tg=175 function within a common PTBOCS, polymer with oxygen, and PTBOCS once followed by decomposition of the monomer n hydroxy 3, 6 of a bridge a 4 part of hexene dimethyl imide methyl acrylate, preparation of new n hydroxy 3 and 6 oxygen bridge a 4 part of hexene dimethyl imide methyl acrylate, to stop the FT - IR characterization and test its thermal and UV fruit notes. The polymer has excellent resistance DEG C, 248 nm deep UV light transmission function, ablation function and film-forming performance, and has advantages of joint force, suitable for 248 nm deep UV photoresist film-forming resin. And another kind of new polymer poly PTBOCS total N hydroxy a Jianglong brain ene 2 and 3 12 formyl imine methyl acrylate for the ablation of owe good, not suitable for photoresist film-forming resin. The formula of Nai and used as a first poly (n - (P - hydroxy phenyl) methyl acrylamide - co n phenyl maleimide imide) and poly n - phenyl methyl acrylamide is n (P hydroxy phenyl) maleimide imide low temperature resistant UV positive photoresist film- through the process of photosensitive agent diazo quinones sulfonyl chloride (DNS) and resistance to solvent diphenyl ketone compound, more specifically discuss the poly (n (P hydroxyphenyl) methyl acrylamide - co n phenyl maleimide imide - DNS UV positive photoresist composition and with supporting the lithography process premise, it notes the imaging contrast gamma = 3. 001, the plasma etching rate can be compared with novolac - diazonaphthoquinone (DNQ), UV lithography glue and its resolution rate can reach 1 m you. Opens up a new 248nm monolayer deep UV photoresist system, film forming resin by poly PTBOCS is n - hydroxy - 3, 6 of a bridging oxygen 4 ring hexene dimethyl imide methyl acrylate PAG take on methyl benzene sulfonic acid triphenyl sulfonium salt, solvent resistance (4, 4 '12 tert butyl oxygen acyloxy) diphenyl propane, solvent take 11 (V / V) of ethylene glycol monomethyl ether acetate EGMEA and ethyl lactate (EL) of the mixed solution, developering for 2. 38% (w/w) four methyl ammonium hydroxide (TMAH) solution. The formulation of this system is discussed, and it is necessary for the formulation of the photoresist. The etching resist ability and linear phenolic resin, DNQ photoresist is similar, preliminary lithographic test annotation, its resolution rate of at least 0. 5 Lord m, it is 22mJ/cm2 photographic sensitivity. Separation to discuss the low temperature resistant UV positive photoresist poly (n (P - hydroxy phenyl) methyl acrylamide co n phenyl maleimide - DNS system and 248 nm deep UV lithography glue poly PTBOCS is n - hydroxy - 3, 6 of a bridging oxygen 4 ring hexene dimethyl imide methyl acrylate - methyl benzene sulfonic acid triphenyl sulfonium salt system imaging mechanism.目录:摘要4-6Abstract6-81 绪论14-42&&&&1.1 微电子技术的发展概况14-16&&&&&&&&1.1.1 国外微电子技术发展现状15-16&&&&&&&&1.1.2 国内微电子技术的发展现状16&&&&1.2 微电子技术与光刻技术的关系16-18&&&&1.3 光刻技术的研究进展18-22&&&&&&&&1.3.1 光学光刻技术19-21&&&&&&&&1.3.2 非光学光刻技术21-22&&&&1.4 光致抗蚀剂22-27&&&&&&&&1.4.1 光刻胶的分类22-23&&&&&&&&1.4.2 紫外光刻胶23-24&&&&&&&&1.4.3 深紫外和极紫外光刻胶24-25&&&&&&&&1.4.4 辐射线光刻胶25&&&&&&&&1.4.5 光刻胶的国内发展现状25-26&&&&&&&&1.4.6 光刻胶的国内市场预测及推广应用前景26-27&&&&&&&&1.4.7 我国今后光刻胶的发展27&&&&1.5 248nm 深紫外光刻胶27-40&&&&&&&&1.5.1 248nm 深紫外光刻的光源28-29&&&&&&&&1.5.2 化学增幅技术29-30&&&&&&&&1.5.3 248nm 光刻胶30-39&&&&&&&&1.5.4 248nm 光刻胶存在的主要问题及解决途径39-40&&&&1.6 本课题的意义和主要研究内容40-42&&&&&&&&1.6.1 本课题的意义40&&&&&&&&1.6.2 主要研究内容40-422 单体的合成、提纯及表征42-73&&&&2.1 引言42-45&&&&&&&&2.1.1 应用于光刻胶成膜树脂的单体的一些基本要求42&&&&&&&&2.1.2 紫外光刻胶成膜树脂的单体42-43&&&&&&&&2.1.3 248nm 深紫外光刻胶成膜树脂的单体43-45&&&&2.2 试验部分45-54&&&&&&&&2.2.1 仪器和试剂45-47&&&&&&&&2.2.2 合成47-54&&&&2.3 结果与讨论54-71&&&&&&&&2.3.1 环戊二烯的制备54&&&&&&&&2.3.2 甲基丙烯酰氯的制备54&&&&&&&&2.3.3 5-降冰片烯-2,3,二酸酐的制备54-55&&&&&&&&2.3.4 3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酸酐的制备55&&&&&&&&2.3.5 N-苯基马来酰亚胺的制备55-56&&&&&&&&2.3.6 N-(p-乙酰氧基苯基)马来酰亚胺的制备56-57&&&&&&&&2.3.7 N-环己基马来酰亚胺的制备57-58&&&&&&&&2.3.8 N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的制备58-59&&&&&&&&2.3.9 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺的制备59-60&&&&&&&&2.3.10 N-羟基-3,6,内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺的制备60&&&&&&&&2.3.11 N-苯基甲基丙烯酰胺的制备60-61&&&&&&&&2.3.12 N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺的制备61-62&&&&&&&&2.3.13 N-(p-乙酰氧基苯基)甲基丙烯酰胺的制备62-63&&&&&&&&2.3.14 p-特丁氧酰氧基苯乙烯的制备63-69&&&&&&&&2.3.15 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯的合成69-70&&&&&&&&2.3.16 N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯的合成70-71&&&&2.4 本章小结71-733 光致产酸剂和其它助剂的合成、表征与性能测试73-89&&&&3.1 引言73-76&&&&&&&&3.1.1 光敏剂73-75&&&&&&&&3.1.2 助剂75-76&&&&3.2 实验部分76-80&&&&&&&&3.2.1 仪器和试剂76-77&&&&&&&&3.2.2 合成77-80&&&&3.3 结果与讨论80-88&&&&&&&&3.3.1 对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐的制备80-83&&&&&&&&3.3.2 N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯的合成83-85&&&&&&&&3.3.3 二苯甲酮的制备85-86&&&&&&&&3.3.4 β-特丁氧酰氧基萘酚的制备86-87&&&&&&&&3.3.5 (4,4’-二特丁氧酰氧基)二苯基丙烷的制备87-88&&&&3.4 本章小结88-894 主体成膜树脂的制备、纯化及性能评价89-114&&&&4.1 引言89-92&&&&4.2 实验部分92-98&&&&&&&&4.2.1 仪器和试剂92-94&&&&&&&&4.2.2 实验操作94-98&&&&4.3 结果与讨论98-112&&&&&&&&4.3.1 聚苯乙烯共 N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺98-102&&&&&&&&4.3.2 聚 N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共 N-苯基马来酰亚胺102-104&&&&&&&&4.3.3 聚 N-苯基甲基丙烯酰胺共 N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺104-106&&&&&&&&4.3.4 聚p－特丁氧酰氧基苯乙烯106-107&&&&&&&&4.3.5 聚 PTBOCS 共 N-苯基马来酰亚胺107-108&&&&&&&&4.3.6 聚 PTBOCS 共 N-环己基马来酰亚胺108-109&&&&&&&&4.3.7 聚 PTBOCS 共 N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯109-111&&&&&&&&4.3.8 聚 PTBOCS 共 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯111-112&&&&4.4 本章小结112-1145 光刻胶的配置及其光刻工艺评价114-139&&&&5.1 引言114-118&&&&&&&&5.1.1 光刻胶的主要性能指标114-116&&&&&&&&5.1.2 光刻工艺116-118&&&&5.2 实验部分118-122&&&&&&&&5.2.1 仪器和试剂118-120&&&&&&&&5.2.2 实验操作120-122&&&&5.3 结果与讨论122-136&&&&&&&&5.3.1 耐高温紫外正型光刻胶122-132&&&&&&&&5.3.2 化学增幅型 248nm 深紫外光刻胶132-136&&&&5.4 本章小结136-1396 光刻胶显影成像机理的探讨139-151&&&&6.1 引言139&&&&6.2 实验部分139-141&&&&&&&&6.2.1 仪器和试剂139-141&&&&&&&&6.2.2 实验操作141&&&&6.3 结果与讨论141-149&&&&&&&&6.3.1 邻重氮萘醌系耐高温紫外光刻胶的显影成像141-145&&&&&&&&6.3.2 248nm 深紫外光刻胶的显影成像145-149&&&&6.4 本章小结149-1517 全文总结及展望151-155&&&&7.1 全文总结151-154&&&&7.2 展望154-155致谢155-156参考文献156-170攻读博士学位期间公开发表的论文170分享到：相关文献|pe二次料会不会含邻苯_百度知道
pe二次料会不会含邻苯
那就是环境造成的！ 一般做TPE的厂家都有这个检测证书，所以里不含TPE材料不需要DBP！ 超标的原料有很多 如果原料没有问题
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中文名 ： 氯化聚乙烯 英文名称： Chlorinated Polyethylene 结构式： [ CH2-CHCl-CH2-CH2 ]n 英文简称： CPE 或 CM 氯化聚乙烯（CPE）为饱和高分子材料，外观为白色粉末，无毒无味，具有优良的耐侯性、耐臭氧、耐化学药品及耐老化性能，具有良好的耐油性、阻燃性及着色性能。韧性良好（在-30℃仍有柔韧性），与其它高分子材料具有良好的相容性，分解温度较高，分解产生HCl，HCL能催化CPE的脱氯反应。
氯化聚乙烯是由高密度聚乙烯（HDPE）经氯化取代反应制得的高分子材料。根据结构和用途不同,氯化聚乙烯可分为树脂型氯化聚乙烯(CPE)和弹性体型氯化聚乙烯(CM)两大类。热塑性树脂除了可以单独使用以外，还可以与聚氯乙烯（PVC）、聚乙烯（PE）、聚丙烯（PP）、聚苯乙烯（PS）、ABS等树脂甚至聚氨酯（PU）共混使...
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出门在外也不愁好莱客家具联合万华推出的原态板（禾香板），其所用的胶水为“MDI生态胶”，号称从基材和胶水均无甲醛释放。但MDI胶水日晒（高温下）会释放出对人体有害的物质。请问各位大侠是否为真？还是在成品的时候已经挥发掉了？
注释：来源于网络，仅供参考MDI的性质、毒性和安全知识1．产品分类和暴露极限2、典型物理数据3、反应数据4、健康影响——短期工业MDI（聚合MDI）中含有很大比例的单体MDI（通常为40~60%），所以，除非有特殊原因或需要测定两者对健康影响的区别，一般情况下认为PM对健康的影响与纯MDI相似。通常，有四种潜在的暴露途径：吸入，皮肤接触，眼睛接触以及口腔摄入。吸入在正常的装卸和储存温度下，MDI具有相对较低的蒸汽压。在适当的通风条件下，空气中的MDI蒸气浓度不会达到或超过暴露指标。除非升高温度，或者将MDI雾化，才会导致以下后果：·吸入MDI将刺激鼻粘膜，咽喉或气管，造成胸部不适，呼吸困难并且减弱肺功能。所以一定要避免暴露超过TLV（暴露极限），使呼吸道致敏的可能性降到最低，这一点很重要。·过度暴露超过PEL将会导致眼睛受刺激，头疼，化学性支气管炎，哮喘症状或肺水肿。还有报道说二异氰酸酯还会导致过敏性肺炎，其症状与流感相似，通常推迟发作。皮肤接触皮肤接触会使皮肤受刺激，或引起过敏性皮炎，与呼吸过敏的规律相同。会出现皮肤变色，长期接触会导致皮肤变红，肿胀，起水泡。眼睛接触眼睛接触会使结膜受刺激，角膜不透明。口腔摄入口腔摄入并不是主要的摄入途径，除非在不经意的情况下摄取了污染的食物或烟草。好的工业卫生经验不允许在运输MDI过程中吃东西或吸烟。如果摄入了MDI，口腔、食道和胃粘膜都将会受到强烈的刺激。5、健康影响——长期吸入通常认为控制MDI的暴露在规定指标（平均0.005ppm，最高不超过0.020ppm）可以防止过敏。但是，如果个体对MDI过敏，在很低的浓度下就会引发哮喘。（见医疗监督部分）对白鼠进行了畸形试验，显示了在PM含量为12mg/m3的条件下胎儿和母体的毒性。在PM含量为4mg/立方米的条件下没影响，在12mg/m3时也没有畸变影响。致癌性有人进行了关于PM中氯含量的测定和潜在致癌性的研究。试验白鼠暴露在雾化PM浓度为0，0.2，1.0或6.0mg/立方米的环境下两年。这种测试需要一台特殊的雾化发生装置。在特别高浓度的条件下发现了一些肺部肿瘤，基本都为良性。MDI慢性吸入的第二次研究是每天17小时保持其密度分别在0、0.2、0.7和2毫克/立方米，以确定PMDI 6小时/天的结论研究。对PMDI研究结果的评价表明肺瘤是由慢性刺激和在整个研究期间观察的呼吸道里的炎症引起的。瘤的发生已远远超出已有的用于保护工人的指南，如果指南被实施，瘤就不太可能会形成。MDI在空气中最大允许浓度（TLV）的8小时重量加权平均数为0.05毫克/立方米。OSHA要求暴露极限被控制在0.2毫克/立方米以下，最高为0.2毫克/立方米。体检定期的体检及医学监察在任何程序中对确保与MDI打交道的工人的健康和安全都是非常必要的。体检应该包括呼吸健康历史，一次临床检查和肺的功能测试。恰当的话，有规律的体检（包括肺活量测定法）可以有助于对所有与呼吸有关的病状的早期察觉。有呼吸方面问题的人，例如哮喘病或者慢性肺疾病，在接触MDI的时候就更易发病。这就要求对个人的估定必须判断此人是否可以在这样的条件下完成他/她的工作而不伤害到自己或他人的健康与安全。暴露控制防止过敏和通过体检尽早查明致敏源，被认为是MDI安全措施最重要的方面。6、急救程序 所有在接触MDI区域作业的工人全都应该有适当的急救程序的训练。经验表明，这样的急救训练可使因MDI意外泄露可能引发的负面影响降到最小程度。呼吸吸入 迅速将吸入者从污染处转移到新鲜空气处并寻求医务照料。注意保持吸入者的平静及其保暖，但不能太热。如果出现呼吸困难的话，可以人工加氧，如果呼吸停止，则应进行人工呼吸。皮肤接触 如果皮肤接触，则用肥皂和流水完全冲洗（最近的研究表明谷物油或者基于多水杨酸乙烷的清洁剂可以较水和肥皂更有效地除去MDI，而且污染后即刻清洗也是很重要的）。在冲洗的时候还要迅速取掉被污染的衣物（包括鞋子）。若皮肤被烧伤或受到刺激，要立即就医。先用8%的氨水浸泡一小时，然后再用热水和洗涤剂洗净被污染的衣物。毁掉包括鞋、各种带子和表带在内的所有皮革制物，因为这些是不能被洗净的。眼睛接触 如果液体的MDI进入到眼睛里，应立即并连续地用低压水流冲洗，尽可能使用眼用水。如果戴有隐型眼镜应摘除，并持续冲洗眼睛至少15分钟。立即就医。口腔摄入 如果不小心摄入MDI，应该让摄入者喝大量水或牛奶（2-3杯），但不要催吐。立即将其转移到有医疗设施的地方并且把中毒的性质和程度通知医务人员。医生应注意：由于MDI没有具体的解毒物，所以医生判断与治疗应密切注意患者的反应。而且需要进行事后检查。7、处理废弃MDI的处理MDI不属资源保护与回收法（RCRA）中规定的危险废弃物之列。废弃MDI最简便的处理方法是让其与废多元醇反应制成低质量的泡沫，可以用来出售也可以作为产成品使用。但是， 如果这些泡沫要进行处理， 就必须完全服从国家和地方的相关法规和要求。 一般认为，无论是MDI还是由其生产的泡沫制品都不属于危险废弃物。所以说，根据联邦法规，由废MDI和废多元醇反应生成的低质泡沫制品都作为非危废弃物来处理。但也应该注意的是国家法可能会有较联邦法更严格的要求。简而言之，废MDI在有些国家是被作为危险废弃物来看待的，因此，在处理废MDI或由其制成的聚氨酯泡沫之前一定要与相应的国家法规机构校核。（注意：MDI与多元醇的反应会放出热量，可能会引起自燃。）废MDI处理的另一方法是使其与一种液体净化剂反应。废MDI应该在机械搅拌下缓慢地或过量地加入到盛在开口桶中的净化剂里。（注意：确保是在通风良好的地方或室外进行。） 并使反应物静放48小时以使反应过程中产生的二氧化碳溢出。最后，将液体倒出，所产生的液体和固体都应该符合联邦、国家和地方性法规。另外，由于MDI不是RCRA所列的危险废弃物，所以其处理并不需要联邦的许可。而且，根据联邦法，最终产物可以作为非危品来处理，但是国家和地方的法规可能会严格一些。空容器的处理空桶和给零售商的IBC，应该先净化，然后压碎以防被重新使用。[注：空的MDI容器可以用水或净化剂溶液（5-10%的碳酸钠溶液）填充以达到净化的目的并使其敞口保持至少48小时。用过的净化剂溶液和漂洗水应该作为非危品严格按照联邦、国家和地方法规进行处理。]装过MDI的桶或IBC处理后共有5种去向。分别为：修理厂以重新利用废金属经销商在许可的装置里焚化处理回收经许可作为垃圾处理不管是哪种去向，所有的桶在离开MDI用户的装置前都必须是空的（注：给回收利用厂的桶往往还需要净化。但是，由于回收厂所采用的清洗和回收技术各不相同，所以MDI用户在净化桶前应该向回收商咨询。）警告：任何情况下都不允许用气体或电的喷枪将空桶烧毁或粉碎，因为那样会产生有毒的分解物。8、净化剂溶液建议配方注意：因为氨水是危险物所以在使用时应格外小心
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高温下板材、油漆、胶水等释放有害物质的速度加快，有利于消费者鉴别建材、家具是否环保
　　按照节气，这周六将迎来立夏。立夏近，朝晴暮雨。气候消息显示，一方面气温节节攀升，很多业主都感受到了“入夏”的气温，另一方面早晚温差变大，阵雨频次增加。
　　气候、物候的变化，对刚刚升温的家装市场也带来不小的影响。近日，扬子家居热线()接到许多业主来电，都在询问：“立夏之后，天气越来越热，会不会影响到工期？此时开工算是市场的淡季，可享受选材优惠，但购买装修材料如何避免材料因干燥、潮湿变形？”针对业主提出的各种疑问，记者先后采访了多个家装建材商家负责人。
　　立夏家装提醒1：防止墙面、木作“没干透”
　　记者向南京家装界的业界人士了解情况，有半数以上的专家表示，担忧夏季施工质量的业主可放心，现在但凡品质好的板材扩张度，完全可抵抗高温天与气候变化，只要在施工过程中对材料的干湿度、含水量进行好把控，不会影响装修质量。
　　南京家庭装饰监理中心负责人龚庭喜表示，“入夏之初，室外较热，室内尚好，其实是装修的一个好季节。消费者担心的夏季潮湿，最大难点是进入桑拿天和雨季后的潮湿空气，潮湿容易引发霉变，因此室内施工环境应该尽量保持通风。尤为重要的是，墙面、木作等容易受到潮气影响的施工环节需要格外谨慎。”
　　据介绍，如果潮气渗透进入墙体基层部分，并且基层没有干透便进行刷漆，漆面将会出现白色的“雾气”，严重时可能出现流坠、开裂等现象。一般来说，入夏后，墙面的干燥时间将会比其他季节要长，最少需要增加5至8天。
　　博洛尼家装工程管理刘经理也表示，墙面正常自然干透的时间需要3至5天，夏天雨季所需的干燥时间则会多出一倍左右，如果墙面基层没有彻底干燥，那么墙漆涂刷就一定不能进行。刘经理称，“如果现场允许交叉施工，那么油工可以提前进场处理墙面，为墙体基层留出足够的干燥时间。”
　　立夏家装提醒2：板材要干燥，也要防暴晒
　　气温变化大或伴随阵雨天频繁，也会影响现场的木作施工。龙发装饰南京分公司总经理张骏驰表示，木材的含水率在夏季施工时也显得极为重要。“正常的含水率应该小于12%，如果木材防潮不到位，木作产品就会出现变色、变形甚至发霉等问题。”
　　张总建议业主，在选材时一定要购买含水率合格的木材，“买材料时，可适当选择较易干燥的产品，当材料进场后略放置一两天，使它与周围湿度相同，这样使用起来就比较合适了。”另外，板材要防止强烈阳光的暴晒；如遇雨天湿度大，储存时需要采取防潮、防变形措施。也勿把板材、木料搁在阳光直射的房间，阳光的暴晒会使木制品表面的油漆加速老化。
　　夏季空气变潮湿，还会导致木地板收缩、缝隙加大，墙面与门框收缩率不同出现缝隙以及墙面开裂等问题。张总认为，“这些都属于季节性转换中出现的正常现象。如果这时修补，水分将会继续挥发，墙面仍有可能继续开裂。应等到墙面水分与外界气候适应之后再进行修补，效果会更好。”
　　立夏家装提醒3：高温下有害物质释放快
　　“任何建材多少都会存在一点污染物，不过在夏季装修过程中，木板等基层裸露在外，能尽快挥发其刺鼻味道，经过7、8两个月的高温敞晾，对之后的使用影响将是最小的。”南京家具协会秘书长徐长林提醒消费者，夏季是加速甲醛等有害物质成倍释放的季节，从另一角度来看，正有利于检验家装材料以及成品家具是否环保。
　　如消费者打开家具的门扇、抽屉、箱盖时上呼吸道有刺激感觉、眼睛流泪，表明甲醛释放量已超标4倍以上。人造板中的游离甲醛至少要挥发3~5年，消费者长期使用有异味的家具、沙发会影响身体健康。一儿童家具加工企业人士表示，以木质材料为例，当气温达到28℃以上、湿度超过45%时，甲醛就会成倍释放。“用鼻子就能大致判断家具材料是不是环保。”
　　扬子晚报记者周海燕
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