为什么射频溅射电源可以制备绝缘溅射膜？

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2016-11-23 02:59 标签： 射频磁控溅射的辐射
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用射频溅射如何制备掺杂薄膜？
我想制备掺杂Pt的SnO2气敏薄膜，用氧化锡粉体制备的掺杂靶材效果一般。
有做过相似实验的请指教，如何制备掺杂Pt的Sn靶？如何将Pt的掺杂量控制在1-2%之间？
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您当前位置：真空镀膜机射频溅射镀膜方法与特点&真空镀膜机射频溅射镀膜方法与特点来源:&日期: 17:33:23&&作者:&&汇成真空真空镀膜机射频溅射镀膜方法与特点
在真空室中，设置两个极板并施加频率在50kH以上的高频电，则处于高频电场中的少量电子在高频电场的作用下加速，与气体分子发生碰撞，使气体分子电离而放出电子，这些电子又会被高频电场加速，最终形成高频辉光放电。高频辉光放电的两电极的辉光没有区别，各自有阴极暗区和负辉区，等离子柱在两极之间。高频电源的输入耦合方式有电容耦合方式和电感耦合方式。
平板电极射频溅射的靶通过匹配回路与射频电源相连，当溅射装置内的布置变化时，适当调整匹配回路，使放电阻抗与电源阻抗相匹配，可有效地输入射频功率，为了使放电区限制在靶与基片之间，在沿着垂直于靶的方向上加磁场。延长电子的运动距离，提高放电电流。两极间等离子区的离子轰击靶表面产生溅射，溅射原子在基片上沉积形成膜层。
射频溅射多用13.56MH射频电源，功率为0.3～10kW，溅射气体压强为1～10-1Pa.射频溅射靶需施加高频电压，并需要水冷却，因此绝缘性能要好，其引水管必须有一定的长度，水电阻要足够大。
射频溅射是用于溅射绝缘靶材镀制绝缘薄膜的方法，用射频放电能溅射绝缘材料，其原因是，当靶材为绝缘材料时，放电的等离子区中电子的迁移率远远大于离子的迁移率，电子撞击靶材时在靶的表面积存，使靶表面自动地加上负偏压，等离子区中的正离子受靶负电位的吸引轰击靶表面产生溅射，基片附近的正离子却没有电场加速，因此基片不产生溅射，另外，射频溅射中，通常基片和真空室接地电位，即使有离子轰击基片，因基片和真空室的总面积远远大于靶的面积，这就分散了离子轰击基片的离子流密度，，使基片上的反溅射作用降到很低，从而可以沉积获得膜层：当靶材是，金属等导体时，也在靶的接线端串联1OO～300μF的电容器，使靶带负电位。
领先的及工艺解决方案供应商-东莞市汇成真空科技有限公司致力于研发和生产真空镀膜机，真空广泛应用于汽车、玻璃、塑胶、电子、钟表、五金等行业，卓越品质，服务全球！
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平板电极射频溅射的靶通过匹配回路与射频电源相连，当溅射装置内的布置变化时，适当调整匹配回路，使放电阻抗与电源阻抗相匹配，可有效地输入射频功率，为了使放电区限制在靶与基片之间，在沿着垂直于靶的方向上加磁场。延长电子的运动距离，提高放电电流。两极间等离子区的离子轰击靶表面产生溅射，溅射原子在基片上沉积形成膜层。
射频溅射多用13.56MH射频电源，功率为0.3～10kW，溅射气体压强为1～10-1Pa.射频溅射靶需施加高频电压，并需要水冷却，因此绝缘性能要好，其引水管必须有一定的长度，水电阻要足够大。
射频溅射是用于溅射绝缘靶材镀制绝缘薄膜的方法，用射频放电能溅射绝缘材料，其原因是，当靶材为绝缘材料时，放电的等离子区中电子的迁移率远远大于离子的迁移率，电子撞击靶材时在靶的表面积存，使靶表面自动地加上负偏压，等离子区中的正离子受靶负电位的吸引轰击靶表面产生溅射，基片附近的正离子却没有电场加速，因此基片不产生溅射，另外，射频溅射中，通常基片和真空室接地电位，即使有离子轰击基片，因基片和真空室的总面积远远大于靶的面积，这就分散了离子轰击基片的离子流密度，，使基片上的反溅射作用降到很低，从而可以沉积获得膜层：当靶材是，金属等导体时，也在靶的接线端串联1OO～300μF的电容器，使靶带负电位。
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