cadence ic fdtemplatelayoutcell xl时,能不能建好cell

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基于Cadence的IC设计
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基于Cadence的IC设计
官方公共微信你看看SMIC库中的reference文件,里面有介绍。Threshold貌似选中apply之后,就以这个位栅宽将mos管做插指,S/D metal width是源,漏端连接的金属线宽。这个等你在画layout的时候,将cell的版图调出来一看就明白了
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我比对了一下各个期间的默认参数,好像那个S/D Metal Width是不变的(在我用的库里面都等于230nM),Threshold=finger width=width,我设参数的时候基本也是根据这个设定的,比如w=48um,我把Threshold也设成48um,然后S/D Metal Width没有修改,不知道可不可以?
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默认参数是不变的啊,但是这个参数是可以自己修改的。当管子源漏电流较大时,在画版图时就要加大S/D的 metal width 来满足电流密度规则要求。Threshold的默认值如果不选中application的话,是不起作用的。主要是设置finger数。
不修改S/D metal width,在电路仿真时是可以的,但实际片子中,如果S/D metal width小得话,可能会由于电流较大,而影响性能。
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还有个问题请教一下,就是finger数应该怎么设置啊?依据什么计算这个数值呢?
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这个,我觉得是如果画cell的话,先定义好单元的结构,最主要的是电源和地之间的距离,然后管子画在此中间。如果管子的高度大于这个距离,就用插指。这样还有一个好处是,降低管子源或漏区的电容,多晶硅栅上的阻抗也降低。具体的finger数,视情况而定了,比如你有个cell栅宽为2u,finger=1,那么你就可以对另一个栅宽为4u的采用finger=2,这样画出来的版图高度就一致了。
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收益匪浅啊!膜拜各位大神
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pdk中的reference 咋看啊,我的smic018 pdk中没有看到“reference”,“readme”等文件。。。
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