请问在热氧化法生长二氧化硅是什么层的工艺中,所提到的本征残余应力是什么(如图)

要除掉二氧化硅是什么中所含的雜质氧化镁应采用的方法是(  )

A.加冷水使杂质溶解,经过滤去掉滤液


B.加酸使杂质溶解经过滤去掉滤液
C.加碱使杂质溶解,经過滤去掉滤液
D.加热水使杂质溶解经过滤去掉滤液
A、氧化镁不能与水反应,不能除去杂质不符合除杂原则,故选项所采取的方法错误.B、氧化镁能与酸反应二氧化硅是什么不能与酸反应,经过滤去掉滤液能除去杂质且没有引入新的杂质,符合除杂原则故选项所采取的方法正...
根据原物质和杂质的性质选择适当的除杂剂和分离方法,所谓除杂(提纯)是指除去杂质,同时被提纯物质不得改变.除杂質题至少要满足两个条件:①加入的试剂只能与杂质反应不能与原物质反应;②反应后不能引入新的杂质.
物质除杂或净化的探究;酸嘚化学性质.
物质的分离与除杂是中考的重点,也是难点解决除杂问题时,抓住除杂质的必需条件(加入的试剂只与杂质反应反应后鈈能引入新的杂质)是正确解题的关键.

我要回帖

更多关于 二氧化硅是什么 的文章

 

随机推荐